镀膜机光控原理是：利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。监控方法：在镀膜过程中，膜层厚度增加后，其透过率或者反射率跟着变化，当到达极值点时其光学厚度为监控波长的1/4，利用这个控制膜厚。晶控法监控膜厚的原理 为利用石英晶体振动频率与其质量成反比的原理，通过仪表监控频率控制膜厚的。

        30/50/75W光源经直流稳压电源稳压,使光源强度保持不便,在光源前加一个由同步电机带动的截光片,使光线有时通过,有时通不过,截光频率为每秒300次,因此光源变成了300r/s的交流光源，再经过聚光镜进入单色仪的入射狭缝，经过棱镜将白光分成单色光线，然后通过出射狭缝射出，得到单色光，通过鼓轮转动棱镜调节单色光波长，由出射狭缝出来的光线被光电倍增管接收，将光信号转换为电信号，再经过选频放大后以电流计指示。在镀膜过程中，随介质膜厚度的增加，在1/4波长和其整数倍的厚度时，其反射光和透射光强度陆续出现极大值和极小值，利用这种原理来控制膜厚的方法叫极值法控制。

    我们用光控，都是一个点控制两层的，第一层高折射材料，二层是低折射率材料，波长选定，要注意的是，光控机都是有波长范围的，不要设的太极限就行，一般在450-900样子，如使用极限波长，可能由于光的能量太弱，造成误差大。极值控制，如下图，不管你走多少个极值，停点不要设计和下一个极值太近就行。

   新科隆电脑里面实际存储的程式，一般都是一个光控片监控三层。第一个监控片低、高、低折射率，因为趋势是下降，所以起始光亮值设置比较高。大概在为90左右；第二个监控片高、低、高折射率，因为趋势是上扬，所以起始光亮值设置为20。每层的起始光亮值的选定保证目的比率基本都在20~30左右为最佳。

霍尔比特可供光控片，具体规格及产品图片如下：

镀膜机光控片 

镀膜机晶控片